[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置。在气体供给管从构成喷淋头的上部电极的中央向上方延伸的等离子体处理装置中，提高通过电磁波在腔室内生成的等离子体的密度的分布的均匀性。公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承部、喷淋头、气体供给管、导入部以及电磁波的供给路。喷淋头由金属形成，设置于基板支承部的上方，提供朝向腔室内的空间开口的多个气体孔。气体供给管由金属形成，在腔室的上方沿铅垂方向延伸，并与喷淋头的上部中央连接。导入部由电介质制成，并沿喷淋头的外周设置，以将电磁波从该导入部导入腔室内。供给路包括与气体供给管的环状的凸缘部连接的导体。