[发明专利]一种基于轴向平移二元振幅掩膜的相干调制成像方法有效
申请号: | 202110689020.4 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113504202B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 徐成;付永启 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;H04N5/372 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 邓黎 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于轴向平移二元振幅掩膜的相干调制成像方法,属于光学相位恢复及相位测量领域。该方法的光学实现系统包括沿轴向依次设置的激光源、二元振幅掩膜、样品、光电探测器;通过将二元振幅掩膜沿轴向方向平移两次,得到三个不同的衍射光场,从而得到三幅衍射图像,然后结合相位恢复算法实现待测样品的准确重构,得到样品的波前分布。本发明方法可以降低实验设备要求,避免复杂的光路系统设计;同时二元振幅掩膜易于加工,且无需进行具体调制分布的预先标定,对于恢复连续分布的复振幅物体具有高收敛速度和高精度的特点,是一种实用而有效的方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 轴向 平移 二元 振幅 相干 调制 成像 方法 | ||
【主权项】:
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