[发明专利]一种基于轴向平移二元振幅掩膜的相干调制成像方法有效
申请号: | 202110689020.4 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113504202B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 徐成;付永启 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;H04N5/372 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 邓黎 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 轴向 平移 二元 振幅 相干 调制 成像 方法 | ||
1.一种基于轴向平移二元振幅掩膜的相干调制成像方法,该方法的光学实现系统包括沿轴向依次设置的激光源、二元振幅掩膜、样品、光电探测器,所述激光源发出的激光照射二元振幅掩膜产生调制光场,所述样品在调制光场的作用下发生衍射,所述光电探测器探测并记录衍射图像;其特征在于,将所述二元振幅掩膜沿轴向方向平移两次,得到三个不同的衍射光场,从而得到三幅衍射图像,然后结合相位恢复算法实现待测样品的准确重构,得到样品的波前分布;
具体包括以下步骤:
S1.确定二元振幅掩膜的透过率函数m;
S2.确定二元振幅掩膜与样品之间的初始距离z1的取值范围:z1N*Δx2/λ,其中N为有效探测面积的采样点数,Δx是有效探测面积的采样间隔,λ是激光波长;
S3.确定样品和探测器的距离z的取值范围:Δx*(Lccd+Lmod)/λzN*Δx2/λ,其中Lccd是探测器的轴向长度,Lmod是二元振幅掩膜的轴向长度;
S4.根据步骤S2-S3,选取z1、z的具体取值,使激光照射二元振幅掩膜,产生调制光场来照射样品,并通过光电探测器记录衍射图像I1;
S5.根据二元振幅掩膜与样品之间的初始距离z1,确定二元振幅掩膜的轴向平移间隔d的取值范围:0dz1/3;
S6.选取d的具体取值,令二元振幅掩膜轴向平移两次,得到两个不同的调制光场,并通过光电探测器记录对应的衍射图像I2、I3;
S7.根据三个不同的调制光场和对应的衍射图像,利用相位恢复GS算法进行样品的复振幅重构,得到样品的波前分布。
2.如权利要求1所述的一种基于轴向平移二元振幅掩膜的相干调制成像方法,其特征在于,所述光电探测器为CCD相机。
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