[发明专利]激光转印设备及激光转印至基材方法在审
| 申请号： | 202110686991.3 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN115570891A | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 李隆翔;潘雷 | 申请（专利权）人： | 阳程科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/47 | 分类号： | B41J2/47;B41J3/01;B41J11/00;B41J25/24;B41J25/308;B41M5/00 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 李怀周 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明为有关一种激光转印设备及激光转印至基材方法，包括：一光学调整装置，其包括有接受一激光光源并调整X、Y轴偏转的一激光扫描头，该激光扫描头与设于该激光扫描头一侧的一场镜皆被固定于一Z轴调整单元；一基材，其设置于该光学调整装置的一侧并可接受该场镜所发射一加工光束聚焦照射之处，且该基材设置于一预设吸附治具顶面；一靶材，其相隔一气隙而贴覆于该基材顶面，该靶材的顶面通过一预设定位治具做一压制，并使该光学调整装置做X、Y、Z轴调整且聚焦照射，以使该靶材受该加工光束照射的一预设区域通过光剥除机制形成微粒化状态，并随着该加工光束的震波传送而植入该基材表面以形成一预设图案。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 设备 转印至 基材 方法 | ||
【主权项】：
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