[发明专利]ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110686716.1 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113527602A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 李文刚;何新耀;李玉博 | 申请（专利权）人： | 佳化化学科技发展（上海）有限公司;上海抚佳精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C08F293/00 | 分类号： | C08F293/00 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 周卫赛 |
| 地址： | 200135 上海市浦东新区中国（上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光响应材料制备技术领域，具体涉及一种ATRP法合成的光响应嵌段聚合物及其制备方法和应用。该嵌段聚合物分子量分布窄，可以在纯水体系中形成纳米级的球形胶束聚集体材料，尺寸为30～600nm，分布均匀，形态均一，可以承载油溶性分子，能够长期稳定存在。通过调节紫外线辐照，形成的球形聚集体材料被解离破坏，实现缓控释放，该聚集体材料具有紫外光响应特性。本发明提供的嵌段聚合物可以广泛应用于生物医药、农药、化学催化和合成等光控缓释等领域。 | ||
| 搜索关键词： | atrp 合成 响应 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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