[发明专利]1S1R型存储器集成结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110677823.8 申请日: 2021-06-18
公开(公告)号: CN113421964B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 王晨;张卫;黄阳;唐灵芝 申请(专利权)人: 复旦大学;上海集成电路制造创新中心有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L25/18
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了1S1R型存储器集成结构的制备方法,包括制备选通器和阻变存储器,以及将所述选通器和所述阻变存储器串联。所述制备方法使用元素组成相同浓度不同的两份旋涂液和所述反溶剂分别配合使用并通过低温旋涂工艺沉积于两个柔性导电衬底,实现了所述两个柔性导电衬底的导电面覆盖的阻变层具有同种元素组成且厚度不同,然后通过所述步骤S3在不同厚度的阻变层表面分别沉积不同金属材料形成不同顶电极就能够得到选通器和阻变存储器,工艺简单且通过所述步骤S4在所述选通器的顶电极施加正向电压刺激后,将所述选通器和所述阻变存储器串联得到所述1S1R型存储器集成结构从而实现了1S1R结构的柔性集成。本发明还提供了一种1S1R型存储器集成结构。
搜索关键词: s1r 存储器 集成 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学;上海集成电路制造创新中心有限公司,未经复旦大学;上海集成电路制造创新中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110677823.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top