[发明专利]提升熔石英元件损伤阈值的后处理方法在审
| 申请号： | 202110675352.7 | 申请日： | 2021-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN113248121A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 蔡超;尹良君;刘蕴霞;戴红玲;何祥;黄金勇;王刚;胡庆;赵恒;杨佳;陈思洁;李瑞洁;鄢定尧;马平 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;电子科技大学 |
| 主分类号： | C03B20/00 | 分类号： | C03B20/00;C03C15/00;C03C23/00;C03B25/00 |
| 代理公司： | 成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙) 51241 | 代理人： | 苟铭 |
| 地址： | 610093*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种提升熔石英元件损伤阈值的后处理方法，首先对熔石英元件进行多频段超声波和兆声波清洗及漂洗，然后再采用多频段超声波辅助热的强碱溶液对熔石英元件进行刻蚀，再对刻蚀后的元件进行精细漂洗，去除元件表面的再沉积层，钝化各种尺寸的损伤前驱体，且不残留刻蚀污染物，从而达到提升光学元件损伤阈值的目的，较好的保持了光学元件的表面质量。本发明适用于不同尺寸的光学元件，操作简单、可控、经济、环保、不破坏光学元件表面质量等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 提升 石英 元件 损伤 阈值 处理 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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