[发明专利]拜耳法中减少垢的方法在审

专利信息
申请号: 202110674648.7 申请日: 2014-12-22
公开(公告)号: CN113401927A 公开(公告)日: 2021-09-17
发明(设计)人: D.A.塞沃;C.J.卡尔比克;F.库拉;D.史泰格;M.泰勒 申请(专利权)人: 塞特工业公司
主分类号: C01F7/06 分类号: C01F7/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 黄念;李唐
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 减少拜耳法中含铝硅酸盐垢的方法,该方法涉及在暴露于拜耳法流之前,用具有高离子强度的抑垢组合物处理拜耳法设备表面。
搜索关键词: 拜耳法中 减少 方法
【主权项】:
暂无信息
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