[发明专利]一种具备公自转的主动射流抛光方法有效
| 申请号： | 202110654276.1 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113245956B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 毕春利;张海涛;李渊明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B13/01;B24B57/02 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 周蕾 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种具备公自转的主动射流抛光方法，包括以下步骤：在抛光过程中，恒定压力的抛光液通过抛光工具头的偏心喷嘴，偏心喷嘴内抛光销在恒定压力流动的抛光液作用下，抛光液通过抛光销使其旋转起来实现自转；同时抛光工具头旋转带动偏心喷嘴内抛光销实现公转；抛光销的公转与自转，以及抛光液对抛光销轴向的压力共同作用下，实现对与抛光销接触的元件的材料去除。本发明的主动射流抛光方法需要抛光销不仅绕工具回转轴公转运动，同时绕其自身回转轴自转，实现了抛光接触区中心去除量大、边缘平缓过度的更理想的去除函数形状、同时对其公转速度要求不高的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具备 自转 主动 射流 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110654276.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
