[发明专利]一种具备公自转的主动射流抛光方法

权利要求书

1.一种具备公自转的主动射流抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：

在抛光过程中，恒定压力的抛光液(5)通过抛光工具头(1)的偏心喷嘴，偏心喷嘴内抛光销(2)在恒定压力流动的抛光液(5)作用下，抛光液(5)通过抛光销(2)使其旋转起来实现自转(7)；同时抛光工具头(1)旋转带动偏心喷嘴内抛光销(2)实现公转(6)；抛光销(2)的公转(6)与自转(7)，以及抛光液(5)对抛光销(2)轴向的压力共同作用下，实现对与抛光销(2)接触的光学元件(3)的材料去除。

2.根据权利要求1所述的具备公自转的主动射流抛光方法，其特征在于，其一种具体实施方式为：

步骤1、首先设计抛光销(2)形状，使其能够在恒定压力流动的抛光液(5)作用下，实现自转(7)；

步骤2、在抛光过程中，抛光液循环系统将一定压力的抛光液(5)输入到抛光工具头(1)的输入端，经抛光工具内管道将抛光液(5)作用在抛光销(2)上；

步骤3、一部分抛光液(5)经由抛光销(2)与抛光工具偏心喷嘴内壁的缝隙中流出，在二者之间形成水膜，起到一定的润滑作用；

步骤4、另一部分抛光液(5)经由抛光销(2)的水道流出，使得抛光销(2)产生自转(7)旋转；

步骤5、同时抛光工具头(1)与抛光设备主轴相连，主轴旋转带动抛光工具头(1)旋转，进而带动抛光销(2)绕主轴公转(6)；

步骤6、同时抛光液(5)使得抛光销(2)受到轴向的压力，使得抛光销(2)紧压在光学元件(3)表面；

步骤7、抛光销(2)在抛光液(5)轴向压力、自转(7)和公转(6)、以及抛光液(5)的影响因素下产生对光学元件(3)的材料去除。

3.根据权利要求1或2所述的具备公自转的主动射流抛光方法，其特征在于，所述抛光销(2)包括：

支撑柱(23)，所述支撑柱(23)底部设置有圆柱体(21)，外围设置有多个叶片(22)，所述叶片(22)外套有薄壁圆柱管(24)。

4.根据权利要求3所述的具备公自转的主动射流抛光方法，其特征在于，所述圆柱体(21)的下端粘贴有聚氨酯抛光膜(4)。

5.根据权利要求1或2所述的具备公自转的主动射流抛光方法，其特征在于，所述偏心喷嘴与光学元件(3)间保留一定的缝隙，确保抛光液(5)能够流出。

6.根据权利要求1或2所述的具备公自转的主动射流抛光方法，其特征在于，所述抛光销(2)旋转转速可由流体力学计算获得。