[发明专利]一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110653142.8 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113571407A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 方回归;张雪峰;张鉴;陈迎鑫 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L51/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 何俊
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及有机材料的微纳功能化制备领域,针对铁电高分子纳米结构图案化后分辨率低的问题,提供一种铁电聚合物高精度微纳米结构的制备方法,包括以下步骤:a)将铁电高分子溶于有机溶剂中,配置成铁电高分子溶液;b)将铁电高分子溶液在硅片衬底均匀旋涂;c)旋涂后的样品结晶得旋涂铁电高分子薄膜;d)在旋涂铁电高分子薄膜的衬底上进行电子束曝光,显影后形成纳米结构。电子束曝光的精度可以达到纳米量级,电子束辐照引起铁电高分子的聚集态结构的改变,可以被显影,显影后被辐照的区域不被溶解,纳米区域得到保留,形成高分辨率的人工设计图案化效果。
搜索关键词: 一种 聚合物 高精度 纳米 结构 制备 方法
【主权项】:
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