[发明专利]一种低烧结温度高膝点磁场钐钴磁体的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110651165.5 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113421760B 公开(公告)日: 2023-01-17
发明(设计)人: 王帅;胡季帆;雍辉;吴铭 申请(专利权)人: 太原科技大学
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;C22C1/04;C22C19/07;B22F1/00;B22F9/04;B22F3/02;B22F3/10;B22F3/24;B22F5/00
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 赵禛
地址: 030024 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要: 发明涉及一种低烧结温度高膝点磁场钐钴磁体的制备方法,属于磁性材料制备技术领域,本发明包括以下步骤:(1)制备粒径为0.4~2mm大小的合金颗粒A;(2)制备粒径为20~100μm的辅料粉末B;(3)合金颗粒A与辅料粉末B混粉后球磨制备钐钴合金粉末;(4)钐钴合金粉末经磁场取向成型,然后再进行冷等静压压制,制备出生坯;(5)生坯经烧结固溶和时效处理制备钐钴磁体。本发明可以有效降低钐钴磁体烧结温度,减少烧结过程中稀土的挥发损失,并且制备的烧结钐钴磁体晶界处有良好的胞状组织结构,磁体具有高膝点磁场(大于20kOe)。
搜索关键词: 一种 烧结 温度 高膝点 磁场 磁体 制备 方法
【主权项】:
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