[发明专利]一种基于双层亚波长孔结构的径向剪切波前测量系统有效

专利信息
申请号: 202110622711.2 申请日: 2021-06-04
公开(公告)号: CN113218519B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 彭琛;魏继锋;周文超;陈刚;温中泉;张志海;黄德权;梁高峰;周毅 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: G01J9/02 分类号: G01J9/02
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 陈法君
地址: 621000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种基于双层亚波长孔结构的径向剪切波前测量系统,所述径向剪切波前测量系统至少包括:双层亚波长孔结构阵列径向剪切干涉板、CCD图像传感器和波前重建单元,所述双层亚波长孔结构阵列径向剪切干涉板被配置为将待检测光束波前分为两束孔径不同且面型一致的波前,并将两束波前照射至所述CCD图像传感器之上;所述CCD图像传感器被配置为基于接受的两束波前形成干涉图像;所述波前重建单元被配置为基于从所述CCD图像传感器获得的干涉图像完成待检测光束波前的信息重建。本发明测量系统极大地减小了系统体积、提高了集成度和抗干扰能力,为激光光束质量测量提供了更为准确和不可或缺关键参数。
搜索关键词: 一种 基于 双层 波长 结构 径向 剪切 测量 系统
【主权项】:
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