[发明专利]形成三维微结构的方法和装置在审
申请号: | 202110579299.0 | 申请日: | 2021-05-26 |
公开(公告)号: | CN113835294A | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 李永春;许永昕;吴俊颖 | 申请(专利权)人: | 李永春 |
主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F7/20 |
代理公司: | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人: | 张坚 |
地址: | 中国台湾*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供形成三维微结构在诸如导光板或集成电路等等的方法和装置。本发明一方面让具有一或多特殊轮廓光罩的光罩数组与被光阻层所覆盖的底材二者间相对运动,另一方面让被投射经过光罩数组的各个光线可以被个别地且动态地调整,借以将光阻层曝光成为不同部份对应到不同三维微结构的图案化光阻层。特别地,光罩数组与底材间的相对运动方向,系与光罩数组的行方向与列方向都相互交叉的。透过调整此相对运动方向,将可以至少调整光阻层如何被图案化以及相对应地形成在底材的各个三维微结构的轮廓与分布方式。 | ||
搜索关键词: | 形成 三维 微结构 方法 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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