[发明专利]形成三维微结构的方法和装置在审

专利信息
申请号: 202110579299.0 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113835294A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 李永春;许永昕;吴俊颖 申请(专利权)人: 李永春
主分类号: G03F1/76 分类号: G03F1/76;G03F7/20
代理公司: 上海远同律师事务所 31307 代理人: 张坚
地址: 中国台湾*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供形成三维微结构在诸如导光板或集成电路等等的方法和装置。本发明一方面让具有一或多特殊轮廓光罩的光罩数组与被光阻层所覆盖的底材二者间相对运动,另一方面让被投射经过光罩数组的各个光线可以被个别地且动态地调整,借以将光阻层曝光成为不同部份对应到不同三维微结构的图案化光阻层。特别地,光罩数组与底材间的相对运动方向,系与光罩数组的行方向与列方向都相互交叉的。透过调整此相对运动方向,将可以至少调整光阻层如何被图案化以及相对应地形成在底材的各个三维微结构的轮廓与分布方式。
搜索关键词: 形成 三维 微结构 方法 装置
【主权项】:
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