[发明专利]一种双光梳散斑干涉测量系统及测量方法有效
申请号: | 202110577015.4 | 申请日: | 2021-05-26 |
公开(公告)号: | CN113295106B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 吴冠豪;施立恒 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16;G01B11/24 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 刘美丽 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种双光梳散斑干涉测量系统及测量方法,该系统包括第一光梳,经准直成平行光发射到第一分束镜,经第一分束镜出射的部分光用于照射待测样品的粗糙表面,经第一分束镜出射的另一部分光通过衰减器照射反射镜,经待测样品和反射镜返回的光进入第一分束镜合束后发射到第二分束镜;第二光梳,经准直成平行光发射到第二分束镜;相机,第二分束镜出射的光经成像透镜成像至相机感光面;信号测量装置,被配置为对相机采集图像的各个像素进行逐点解耦,获得待测样品粗糙表面在相机视场下的散斑颗粒形貌。本发明可以实现对粗糙表面形变的可溯源定量测量,以及无需机械扫描结构的动态测量,可以在更多复杂的形变测量需求中得到应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 双光梳散斑 干涉 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】:
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