[发明专利]一种可实现重复应力发光的异质结构材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202110534204.3 | 申请日： | 2021-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN113355094A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 涂东;杨秀霞 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C09K11/78 | 分类号： | C09K11/78 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 李景 |
| 地址： | 430072*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本申请涉及应力发光材料技术领域，特别涉及一种可实现重复应力发光的异质结构材料及其制备方法。该制备方法包括以下步骤：称取碳酸盐、氧化铌和氧化镨混合研磨，得到混合粉料；将混合粉料置于空气氛围中焙烧，焙烧完成后，冷却至室温，研磨，即得到异质结构材料。本申请制得的异质结构材料的结构式为Li |
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| 搜索关键词： | 一种 实现 重复 应力 发光 结构 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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