[发明专利]一种含氧空位的二氧化钼/铋光催化剂及其制备方法和应用

摘要

本发明涉及催化材料技术领域，提供了一种含氧空位的二氧化钼/铋光催化剂及其制备方法和应用，先制备MoO2/钼网复合材料，在MoO2/钼网上生成Bi0，再采用还原剂对MoO2/Bi/钼网进行处理，还原剂不仅使Bi0充分暴露在催化剂表面，同时引入了氧空位，能够防止Bi0金属纳米颗粒表面形成氧化层导致其光催化活性降低，进而能够明显提升光催化活性；在保护气氛下进行氧化还原反应能够排除溶液中的O2，还原剂与Mo4+反应生成Mo3+,使得与O的配位发生改变造成部分O发生逃逸进而形成OVs。实施例测试结果表明，本发明制备的含氧空位的二氧化钼/铋在2h内对甲苯的降解率达到了98％以上，具有优异的光催化性能。