[发明专利]一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法在审
| 申请号： | 202110508319.5 | 申请日： | 2021-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN113322008A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 蒋旭东;朱进;蒋良平 | 申请（专利权）人： | 南京卓胜自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18;B24B1/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 苏虹 |
| 地址： | 210000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法，添加剂按质量百分比计，包括如下组分：有机硅0.1％～10％，光亮剂0.1％～10％，氟碳表面活性剂0.05％～1％，余量为水。采用本发明提供的单晶碱抛光添加剂，应用于单晶抛光工艺，可以得到背面光亮的单晶，同时大幅度增加反射率；该单晶碱抛光添加剂影响抛光平整度，增强反应速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶碱 抛光 添加剂 方法 | ||
【主权项】：
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