[发明专利]基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法在审
| 申请号： | 202110490116.8 | 申请日： | 2021-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN113341653A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 朱明强;向诗力;李冲 | 申请（专利权）人： | 湖北高碳光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 彭翠;曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北省鄂*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于微电子加工材料技术领域，更具体地，涉及一种基于六芳基联咪唑分子开关的紫外正性光刻胶及使用方法。其包括含低聚物二元醇、官能化的六芳基联咪唑分子开关交联剂以及自由基淬灭剂的A胶和包含催化剂和二异氰酸酯的B胶。利用该光刻胶进行光刻时，该光刻胶聚合物曝露于紫外光照下，六芳基联咪唑(HABI)单元中两个咪唑环之间的动态C‑N共价键响应光照裂解，含动态HABI单元的高分子聚合物因此解聚形成低聚物；自由基淬灭剂用于确保该光刻胶在曝光解聚形成低聚物后不会自发复原，从而保证光刻胶曝光部分形成的低聚物能溶解于显影液中，而未曝光部分不会被显影液溶解，显影后得到具有高分辨率的正性图案。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 六芳基联 咪唑 分子 开关 紫外 光刻 使用方法 | ||
【主权项】：
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