[发明专利]一种投影系统及投影仪在审
| 申请号： | 202110480914.2 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113156753A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 李金华;杨军超;吴丽萍;徐殿维 | 申请（专利权）人： | 博众精工科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 215200 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种投影系统及投影仪，该投影系统包括出光模块、匀光模块、光调制模块、数字微镜阵列和投影成像模块。出光模块用于出射投影系统所需的发光光束。匀光模块包括匀光片，匀光片用于对发光光束进行匀光处理，形成匀光光束。光调制模块包括第一调制单元，第一调制单元用于调整匀光光束入射至数字微镜阵列。数字微镜阵列用于反射匀光光束形成反射光束，反射光束携带编码图案。光调制模块还包括第二调制单元，第二调制单元用于反射至少部分反射光束至投影成像模块。投影成像模块用于将反射光束投影至待投影位置。通过设置匀光片用于均匀发光光束，保证投影效果前提下，有效减少投影系统的体积，降低制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 系统 投影仪 | ||
【主权项】：
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