[发明专利]射线探测基板、射线成像设备和曝光时长确定方法在审
| 申请号： | 202110480884.5 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113204043A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 庞凤春;侯学成 | 申请（专利权）人： | 北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/02 | 分类号： | G01T1/02;G01T7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 魏艳新;姜春咸 |
| 地址： | 100176 北京市北京经济技术开发*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种射线探测基板、射线成像设备和曝光时长确定方法，其中，射线探测基板包括：多个光电探测器和第一控制电路，多个光电探测器包括第一光电探测器和第二光电探测器，第一控制电路配置为，在曝光时长确定阶段：获取第一光电探测器产生的第一电信号，第一电信号为射线照射达到第一时长时第一光电探测器产生的电信号；获取第二光电探测器产生的第二电信号，第二电信号为射线照射多个光电探测器达到第二时长时，第二光电探测器产生的电信号；根据第一光电探测器产生的电信号与第二光电探测器产生的电信号之间的差异，确定目标曝光时长，并输出第一信号；第一信号配置为：控制射线发生器在达到目标曝光时长后停止发射射线。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 探测 成像 设备 曝光 确定 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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