[发明专利]成像设备的防盐碱结构和成像设备在审

专利信息
申请号: 202110462662.0 申请日: 2021-04-27
公开(公告)号: CN113114914A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 刘伟;丁新生;齐大球;李小明;李小辉 申请(专利权)人: 深圳市安星数字系统有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225
代理公司: 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 代理人: 巩莉
地址: 518000 广东省深圳市龙华区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种成像设备的防盐碱结构和成像设备,其中,所述成像设备的防盐碱结构包括套筒和防护筒,所述套筒用于沿轴向向下插设在盐碱地开设的盲孔内,所述套筒内形成有容置腔,所述容置腔用以容纳所述成像镜头,所述套筒的侧壁贯设有开口,所述防护筒中空设置,且套设于所述套筒,并盖设于所述开口的外侧,所述防护筒至少部分地呈透明设置,以使得所述成像镜头可依次透过所述开口和所述防护筒采集所述盐碱地图像。本发明提供的技术方案中,通过设置套筒与防护筒,将成像设备设置在所述套筒和所述防护筒内,以解决现有的成像设备在盐碱地进行拍摄时,成像镜头会被腐蚀的问题。
搜索关键词: 成像 设备 盐碱 结构
【主权项】:
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