[发明专利]成像设备的防盐碱结构和成像设备在审
申请号: | 202110462662.0 | 申请日: | 2021-04-27 |
公开(公告)号: | CN113114914A | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 刘伟;丁新生;齐大球;李小明;李小辉 | 申请(专利权)人: | 深圳市安星数字系统有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225 |
代理公司: | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 | 代理人: | 巩莉 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 设备 盐碱 结构 | ||
1.一种成像设备的防盐碱结构,用于防护成像镜头,其特征在于,包括:
套筒,用于沿轴向向下插设在盐碱地开设的盲孔内,所述套筒内形成有容置腔,所述容置腔用以容纳所述成像镜头,所述套筒的侧壁贯设有开口;
防护筒,所述防护筒中空设置,且套设于所述套筒,并盖设于所述开口的外侧,所述防护筒至少部分地呈透明设置,以使得所述成像镜头可依次透过所述开口和所述防护筒采集所述盐碱地图像。
2.如权利要求1所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述套筒和所述防护筒的外表面分别设有抗盐碱封闭涂层。
3.如权利要求1所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述套筒具有连通所述容置腔的开口,所述成像设备的防盐碱结构还包括盖板,所述盖板盖设于所述开口,所述盖板还开设有连通所述容置腔安装孔;
所述成像设备的防盐碱结构还包括气源,所述气源的出气口与所述安装孔连接,所述气源用以对所述容置腔内输送气体。
4.如权利要求3所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述盖板上还开设有通风孔,所述成像设备的防盐碱结构还包括旋转盖,所述旋转盖可活动地盖设于所述盖板,所述旋转盖的底壁上开设有调节孔,所述旋转盖与所述盖板转动连接,以使得所述成像设备的防盐碱结构具有所述通风孔与所述调节孔在沿所述轴向上对接的打开位置、以及所述通风孔与所述调节孔在所述轴向上错开的关闭位置。
5.如权利要求1所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述套筒外周环设有第一卡持臂和第二卡持臂,所述第一卡持臂与所述第二卡持臂在所述套筒的轴向上间隔部分,所述开口位于所述第一卡持臂与所述第二卡持臂之间,所述防护筒夹设于所述第一卡持臂与所述第二卡持臂之间。
6.如权利要求5所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述第一卡持臂位于所述第二卡持臂上侧,在所述第一卡持臂的下侧沿周向开设有开口朝下的第一安装槽,在所述第二卡持臂的上侧沿周向开设有开口朝上的第二安装槽,所述防护筒的上端卡持于所述第一安装槽内,所述防护筒的下端卡持于所述第二安装槽内。
7.如权利要求6所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述成像设备的防盐碱结构还包括第一密封垫和第二密封垫,所述第一密封垫对应容设于所述第一安装槽,所述第二密封垫对应容设于所述第二安装槽,以使得所述第一密封垫和所述第二密封垫分别夹设于所述套筒与所述防护筒之间。
8.如权利要求7所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述套筒的外侧壁在沿所述套筒周向凸设有第一止挡凸起和第二止挡凸起,且所述第一止挡凸起在轴向上位于所述开口与所述第一卡持臂之间,所述第二止挡凸起在轴向上位于所述开口与所述第二卡持臂之间,以使得所述防护筒的内壁分别与所述第一止挡凸起和所述第二止挡凸起抵接。
9.如权利要求1所述的成像设备的防盐碱结构,其特征在于,所述套筒设有多个,多个所述套筒沿上下向依次排布,且相邻两所述套筒之间可拆卸连接。
10.一种成像设备,其特征在于,包括:
如权利要求1至9中任意一项所述的成像设备的防盐碱结构;以及,
成像镜头,沿上下向可活动地设于所述容置腔。
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