[发明专利]一种化学机械抛光后清洗液有效
| 申请号： | 202110461600.8 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113186540B | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 王溯;马丽;何加华;史筱超 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23G1/16 | 分类号： | C23G1/16 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液。本发明提供了一种化学机械抛光后清洗液。本发明的清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01％‑25％强碱、0.01％‑30％醇胺、0.001％‑1％抗氧化物、0.01％‑0.1％杂环化合物、0.01％‑10％缓蚀剂、0.01％‑10％螯合剂、0.01％‑5％表面活性剂和14％‑75％水，各组分质量分数之和为100％；其中，所述杂环化合物为嘧菌腙和三环唑，所述嘧菌腙和三环唑的质量比为9:1。本发明的清洗液清洗能力更强、腐蚀速率更低、BTA去除能力更强、稳定性更好，可同时实现清洗、缓蚀和BTA的去除的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 清洗 | ||
【主权项】：
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