[发明专利]一种新型蚀刻液电解阴离子膜的制备方法及应用有效
| 申请号： | 202110458934.X | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113373694B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 施立钦 | 申请（专利权）人： | 宁波职业技术学院 |
| 主分类号： | D06M15/333 | 分类号： | D06M15/333;D06M13/328;D06M13/352;C25C7/04;C25C1/08;C25C1/10;C23F1/46;D06M101/32 |
| 代理公司： | 浙江中桓联合知识产权代理有限公司 33255 | 代理人： | 朱萍 |
| 地址： | 315800 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型蚀刻液电解阴离子膜的制备方法及应用，属于蚀刻液电解技术领域。本发明阴离子膜的制备方法为：S1、对涤沦纤维进行前处理；S2、在紫外光和催化剂作用下，将经过前处理的涤沦纤维加入到1,2‑二甲基咪唑溶液中进行改性处理；S3、将经过改性处理的涤沦纤维加入胺类水溶液中进行季铵化反应，制得涤沦纤维膜；S4、将涤沦纤维膜浸泡到PVAL溶液中，取出干燥，制得涤沦纤维阴离子膜。在特定条件下通过对涤纶纤维进行改性和季铵化反应处理制得阴离子膜处理能力强，电极电压增加相比于其他同类离子膜下降了约10％，电阻相比于其他同类离子膜下降10‑12％；使用寿命极大延长，由原来的更换时间不足20‑30天，增加到现在的一年多。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 蚀刻 电解 阴离子 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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