[发明专利]一种新型蚀刻液电解阴离子膜的制备方法及应用有效
申请号: | 202110458934.X | 申请日: | 2021-04-27 |
公开(公告)号: | CN113373694B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 施立钦 | 申请(专利权)人: | 宁波职业技术学院 |
主分类号: | D06M15/333 | 分类号: | D06M15/333;D06M13/328;D06M13/352;C25C7/04;C25C1/08;C25C1/10;C23F1/46;D06M101/32 |
代理公司: | 浙江中桓联合知识产权代理有限公司 33255 | 代理人: | 朱萍 |
地址: | 315800 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 蚀刻 电解 阴离子 制备 方法 应用 | ||
1.一种蚀刻液电解阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述的制备方法包括以下步骤:
S1、对涤沦纤维进行除油、粗化前处理;
S2、在紫外光和催化剂作用下,将经过前处理的涤沦纤维加入到1,2-二甲基咪唑溶液中进行改性处理;
S3、将经过改性处理的涤沦纤维加入胺类水溶液中进行季铵化反应,制得涤沦纤维膜;
S4、将涤沦纤维膜浸泡到PVAL溶液中,然后取出干燥,制得蚀刻液电解涤沦纤维阴离子膜;
所述步骤S2中催化剂由羟基苯乙酮、液氯、氯苯组成,且添加重量分别为涤纶纤维总重量的2-8%、5-6%、2-5%。
2.根据权利要求1所述的阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述紫外光强度为200-500mW。
3.根据权利要求1所述的阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述1,2–二甲基咪唑溶液与涤纶纤维的质量比为(1-1.5):1。
4.根据权利要求1所述的阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S2的反应温度为80-90℃,反应时间为10-20h。
5.根据权利要求1所述的阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中改性涤纶纤维与胺类水溶液的质量比为(1-3):1。
6.根据权利要求1或5所述的阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述胺类水溶液为甲胺水溶液、乙胺水溶液、丙胺水溶液或丁胺水溶液中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的阴离子膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中PVAL溶液的质量浓度为10-30%,浸泡时间为5-12h,干燥温度为小于120℃。
8.一种如权利要求1-7中任一项所述的制备方法制得的阴离子膜的应用,其特征在于,采用涤沦纤维阴离子膜将阴阳极分开,在恒电流为400-600A/M2、操作温度为50-60℃、阴阳极压力均衡、循环流量为5-10L/min的作用下,对含有三氯化铁30-40%、氯化亚铁5-10%、氯化镍8-10%、氯化铬8-12%的蚀刻废液进行电解。
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