[发明专利]一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法有效
| 申请号： | 202110448243.1 | 申请日： | 2021-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN113376719B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 李瑞彬;罗明辉;乔文;徐越;成堂东;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B27/00;G02B5/02;G02B27/09 |
| 代理公司： | 苏州简理知识产权代理有限公司 32371 | 代理人： | 杨瑞玲 |
| 地址： | 215123 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法，所述扩散片包括光学衬底，于所述光学衬底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干排布的微透镜，相邻两个微透镜的交界处通过邻接过渡曲面过渡连接，多个所述邻接过渡曲面的交叉区域形成顶部曲面凸起。所述随机微透镜阵列边界处理方法包括对随机微透镜阵列的初始设计灰度图像进行卷积处理得到优化设计灰度图像；基于优化设计灰度图像制造得到所述工程扩散片。利用本发明提出的工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法可以消除扩散片上透镜之间的高度突变，降低加工难度，提高光利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工程 扩散 随机 透镜 阵列 边界 处理 方法 | ||
【主权项】：
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