[发明专利]一种工程扩散片及随机微透镜阵列边界处理方法

权利要求书

1.一种随机微透镜阵列边界处理方法，其特征在于，其包括：

提供随机微透镜阵列的初始设计灰度图像；

根据光刻设备的精度对随机微透镜阵列的所述初始设计灰度图像进行卷积处理得到优化设计灰度图像；

基于所述优化设计灰度图像制造得到所述随机微透镜阵列；

其中，卷积处理具体包括：

选定一个卷积核，所述卷积核为根据微透镜口径选定的N*N矩阵，矩阵元素值均为1/(N*N)，其中，N为大于等于3的奇数；

通过所述卷积核对随机微透镜阵列的所述初始设计灰度图像进行卷积处理，得到优化设计灰度图像。

2.根据权利要求1所述的一种随机微透镜阵列边界处理方法，其特征在于，若根据所述优化设计灰度图像制作出的所述随机微透镜阵列的光学效果与目标光学效果相比未达标，则将所述卷积核的尺寸缩小或放大后对所述初始设计灰度图像重新进行卷积处理，直至制作出的所述随机微透镜阵列的光学效果达标；或

若根据所述优化设计灰度图像制作出的所述随机微透镜阵列的光学效果与目标光学效果相比未达标，则对所述初始设计灰度图像减少或增加卷积次数处理，直至制作出的所述随机微透镜阵列的光学效果达标。

3.根据权利要求1所述的一种随机微透镜阵列边界处理方法，其特征在于，所述卷积核尺寸的最大值为所述随机微透镜阵列中的最大微透镜尺寸的1/10，所述卷积核尺寸的最小值为所述随机微透镜阵列中的最小微透镜尺寸的1/20。

4.一种工程扩散片，其特征在于，其由权利要求1-3中任一所述的随机微透镜阵列边界处理方法制备而成，其包括：

光学衬底，

于所述光学衬底上形成的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括若干排布的微透镜，相邻两个微透镜的交界处通过邻接过渡曲面过渡连接，

多个所述邻接过渡曲面的交叉区域形成顶部曲面凸起。

5.根据权利要求4所述的一种工程扩散片，其特征在于，

任意一个微透镜与绕设在其周围的微透镜通过所述邻接过渡曲面和所述顶部曲面凸起相连。

6.根据权利要求5所述的一种工程扩散片，其特征在于，

任意按照环状相邻排布的多个微透镜的交界处的中心通过顶部曲面凸起过渡连接。

7.根据权利要求6所述的一种工程扩散片，其特征在于，

任意按照环状相邻排布的多个微透镜的交界处的中心通过顶部曲面凸起过渡连接，该按照环状相邻排布的多个微透镜两两相接，且两两相接的交界处通过所述邻接过渡曲面过渡连接，

该多个微透镜两两相接形成多个所述邻接过渡曲面，该多个所述邻接过渡曲面的交界处形成所述顶部曲面凸起。

8.根据权利要求4所述的一种工程扩散片，其特征在于，

所述顶部曲面凸起的底面的外接圆为多个所述邻接过渡曲面的交叉区域的内接圆。

9.根据权利要求4所述的一种工程扩散片，其特征在于，

排成一排或一列的所述微透镜的中心点在一条直线两侧的预定范围内随机分布。

10.根据权利要求4所述的一种工程扩散片，其特征在于，

若干排布的所述微透镜的曲率范围为70~120mm^-1；

若干排布的所述微透镜的圆锥系数的范围为1.0~-2.0；

若干排布的所述微透镜的尺寸范围为20~50um。