[发明专利]一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 202110438513.0 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN113085127A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 孙艳斌;李彬彬;刘金伟;齐宝山;吕廷磊;姚成法;王鹏;董相岗;张玲;张凝 申请(专利权)人: 山东胜通光学材料科技有限公司
主分类号: B29C48/08 分类号: B29C48/08;B29C48/31;B29C48/305;B29C48/87;B29C48/92;C08L67/02;C08L63/00;C08L79/08;C08L77/00;C08K3/22;C08K3/34;C08J5/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 257500 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法,涉及薄型高清晰预涂基膜的制备技术领域。本发明包括如下步骤:步骤一、挤出机:挤出机在挤出熔体时,保持挤出熔体压力均匀、稳定;步骤二、挤出的熔体经过熔体粗过滤和熔体精过滤过程,过滤除去熔体中过分降解的产物及夹带的气泡、未熔物料或焦料等异物。本发明通过模头采用自动调节挠性模唇的T型模头,用计算机控制厚度、测厚信号反馈到热膨胀螺栓,使其自动加热或冷却,确保厚片厚度均匀,厚度公差≦3%。全线控制采用所有驱动和工艺参数自动控制,电气传动控制精度<1%。
搜索关键词: 一种 薄型高 清晰 预涂基膜 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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