[发明专利]基于多重修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法有效
| 申请号： | 202110429859.4 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113188456B | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 王文中;陈虹百;梁鹤;赵自强 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 代丽;郭德忠 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明以若干不同标准厚度薄膜的荧光照片作为样本，基于多项式并考虑荧光成像区域的光学特性，建立薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，构建标定系数方程组并求解，使用统计学方法减小随机误差，得到标定系数表。拍摄待测薄膜的荧光照片，基于标定系数表以及薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，计算得到每一像素单元对应的薄膜厚度。通过再次测量标准厚度薄膜，得到测量误差分布情况，对标定系数与测量值进行校正，可显著减小由非线性、荧光成像区域光学特性以及荧光强度随机性带来的测量误差，能有效提高荧光染色薄膜厚度的测量精度以及量程。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 多重 修正 荧光 染色 薄膜 厚度 测量 标定 方法 | ||
【主权项】：
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