[发明专利]一种大电流高压硅堆的清洗方法在审
| 申请号： | 202110426283.6 | 申请日： | 2021-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN113319036A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 王志敏;黄丽凤;丁晓飞 | 申请（专利权）人： | 如皋市大昌电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;H01L21/02 |
| 代理公司： | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人： | 崔立青;王玉梅 |
| 地址： | 226578 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种大电流高压硅堆的清洗方法，该大电流高压硅堆的清洗方法步骤如下：首先浸泡，通过机械手臂将高压硅堆放入混合液体中浸泡，浸泡时长为60‑80s，而后取出，静置2‑3小时，然后通过纯净的蒸馏水进行反复冲洗，冲洗时长为50‑60s，得到第一次清洗后的高压硅堆，其次重复清洗，将第一次采用蒸汽清洗后的高压硅堆再次清洗，这次采用纯水清洗，清洗后甩干，在100℃‑120℃的氮气箱内干燥处理，干燥处理时长为20‑30min，得到烘干后的高压硅堆；该一种大电流高压硅堆的清洗方法，通过采用不同的清洗方式，逐步的对高压硅堆进行清洗，同时通过不同的清洗内容，可以有效的将高压硅堆的表面杂质去除，从而提高高压硅堆的耐久性及可靠性，也提高了其使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电流 高压 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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