[发明专利]一种高浓度阴离子掺杂的TiO2

摘要

本发明提供一种高浓度阴离子掺杂的TiO2及其制备方法和应用，该制备方法为：先将钛源进行预碳化，接着将预碳化后的钛源中通过高温氢气还原方法引入氧空位缺陷，然后在保护气氛下通过掺杂源扩散进行掺杂，掺杂产物经洗涤，真空干燥后得到高浓度阴离子掺杂的TiO2；其中，所述钛源为Ti‑MOF、锐钛矿和金红石型TiO2中的至少一种，所述掺杂源为升华硫、硒单质和红磷中的一种。本发明的制备方法，通过氢气还原处理引入氧空位缺陷，利用氧空位辅助杂原子进入二氧化钛或Ti‑MOF的晶格中，实现高浓度阴离子掺杂水平，具有流程短、操作简单，快速、高效的特点，有利于工业化生产。