[发明专利]一种新型压印膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种新型压印膜的制备方法，包括：基材，所述基材的上部设置有胶黏层和压印膜层，所述胶黏层位于基材和压印膜层之间。本发明在基材表面设置一层胶黏层，使压印膜层通过胶黏层与基材之间相连接，通过光刻以及刻蚀工艺在压印膜层表面形成纳米压印结构，压印模板不同位置、不同图形的结构深度等于压印膜层的厚度，其深度更好，在制备过程中不需要刻蚀硅片，不会对硅片造成损伤，一旦发现工艺异常、精度不达标，可去除基材表面的膜层进行返工，从而避免的硅片报废，降低生产成本，并提高良品率，该胶黏层在常温下呈固体，无粘连性，便于涂覆、烘干后与薄膜相连。