[发明专利]基于多尺度多光子光刻技术的微纳米三维结构制备系统和方法在审
| 申请号： | 202110368181.3 | 申请日： | 2021-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN113050390A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 魏鹤鸣;韩龙;徐瑞阳;吴彰理;庞拂飞;王廷云 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 郑海峰 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于多尺度多光子光刻技术的微纳米三维结构制备系统和方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。系统包括支撑结构、基板、光敏聚合物容器池、物镜、第一光学结构、第二光学结构、光学成像装置和控制器；所述的控制器用于控制第一光学结构、第二光学结构的启闭及工作参数，光学成像装置用于获取物镜的成像信息；所述的第一光学结构发射第一波长的光，通过物镜聚焦在光敏聚合物中，引发单光子聚合；所述的第二光学结构发射第二波长的光，通过物镜聚焦在光敏聚合物中，引发多光子聚合。对待打印的微纳米三维结构的打印数据进行高、低分辨率分割，逐层打印，在保证打印精度的基础上提高了打印速度。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 尺度 光子 光刻 技术 纳米 三维 结构 制备 系统 方法 | ||
【主权项】：
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