[发明专利]一种基于高斯径向基函数曲面的成像系统设计方法有效
申请号: | 202110365947.2 | 申请日: | 2021-04-06 |
公开(公告)号: | CN113126289B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 杨通;倪俊豪;程德文;王涌天 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00;G06K9/62;G06V10/764 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 代丽 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于高斯径向基函数曲面的成像系统设计方法。本发明以视场比需求值小的光学系统作为设计起点,然后逐步增大视场,基于“视场扩展,高斯延拓”的思路,新的高斯函数随着视场的扩展依次添加到曲面边缘,逐步扩展曲面尺寸,通过渐进式优化得到最终满足设计指标的成像系统。本发明方法简单,易于实现,特别适用于大视场成像光学系统设计。本发明为实际成像系统运用高斯径向基函数曲面提供便利,且方便简便、适用性强,对于各种应用、各种系统结构的自由曲面成像系统,都可以用此方法,从一个简单的系统为起点,逐步完成系统设计。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 径向 函数 曲面 成像 系统 设计 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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