[发明专利]磨抛单元位姿感知方法、打磨方法和磨抛单元有效

专利信息
申请号: 202110339987.X 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN113199487B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 刘晓顺;李千千;向阳;仰北川;丁文政 申请(专利权)人: 武汉数字化设计与制造创新中心有限公司
主分类号: B25J11/00 分类号: B25J11/00;B25J9/16;B24B49/00
代理公司: 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 代理人: 易滨
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种磨抛单元位姿感知方法、打磨方法和磨抛单元,获取磨抛单元初始坐标和目标坐标之间的偏差,机器人控制所述磨抛单元由初始坐标向目标坐标的方向运行,每隔预设时间利用姿态传感器获取磨抛单元的运行角度,利用光流传感器获取磨抛单元在相邻时刻之间的移动路程,基于航迹推算法可得出磨抛单元当前时刻的坐标;根据磨抛单元当前时刻坐标和目标坐标之间的偏差,机器人控制磨抛单元由当前时刻坐标向目标坐标的方向运行,直至运行至目标坐标。机器人获取磨抛单元的位置和运动姿态,来调整下一步运行方向,可实时对磨抛单元的运动轨迹进行调整,使得磨抛单元不断向目标坐标移动,保证打磨的实际轨迹和规划轨迹之间的一致性,避免重复打磨。
搜索关键词: 单元 感知 方法 打磨
【主权项】:
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