[发明专利]曝光装置和曝光方法在审
| 申请号： | 202110295488.5 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN114967354A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 奥山隆志 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于靖帅;杨俊波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供曝光装置和曝光方法，即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40)，该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2)，该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1～PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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