[发明专利]一种Ta表面掺杂的高镍单晶正极材料及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110278978.4 申请日: 2021-03-16
公开(公告)号: CN113066978B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 郭玉国;邹玉刚;石吉磊;盛航;殷雅侠;辛森 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: H01M4/62 分类号: H01M4/62;H01M4/505;H01M4/525;H01M10/0525;C30B31/04;C23C18/12;C01G53/00
代理公司: 北京中知星原知识产权代理事务所(普通合伙) 11868 代理人: 艾变开
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了Ta表面掺杂的高镍单晶正极材料及其制备方法,所述单晶正极材料包括:单晶正极材料(LiNixCoyMn1‑x‑yO2,x>0.6,y<0.2)内核和由Ta离子表面掺杂形成的金属富集层LiTam(NixCoyMn1‑x‑y)1‑mO2,x>0.6,y<0.2,0m1)。本发明的Ta表面掺杂的高镍单晶正极材料,单晶的生长受到抑制,同时保留了高价过渡金属离子对电池性能的提升作用,当进行碳包覆后,结合碳包覆层改善电子导电性,可以提高电池倍率、容量、循环性能。
搜索关键词: 一种 ta 表面 掺杂 高镍单晶 正极 材料 制备 方法
【主权项】:
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