[发明专利]制造掩模的方法和制造显示装置的方法在审
| 申请号： | 202110263540.9 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113388804A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 金柾勋;晋丞民;洪宰敏 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L21/32 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 宋颖娉;康泉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了制造掩模的方法和制造显示装置的方法。具体地，提供的是制造被配置为最小化阴影效应的具有高精度的掩模的方法以及制造显示装置的方法。制造掩模的方法包括：拉紧掩模板；将拉紧的掩模板结合至掩模框；以及通过在掩模板上照射激光而在掩模板中形成开口，使得开口的内壁相对于掩模板的表面具有斜坡。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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