[发明专利]制造掩模的方法和制造显示装置的方法在审
申请号: | 202110263540.9 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN113388804A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 金柾勋;晋丞民;洪宰敏 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04;H01L21/32 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 宋颖娉;康泉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 方法 显示装置 | ||
本发明公开了制造掩模的方法和制造显示装置的方法。具体地,提供的是制造被配置为最小化阴影效应的具有高精度的掩模的方法以及制造显示装置的方法。制造掩模的方法包括:拉紧掩模板;将拉紧的掩模板结合至掩模框;以及通过在掩模板上照射激光而在掩模板中形成开口,使得开口的内壁相对于掩模板的表面具有斜坡。
相关申请的交叉引用
本申请要求2020年3月13日递交的韩国专利申请第10-2020-0031315号的优先权和权益,为了所有目的通过引用将其合并于此,就像完全在本文中阐述一样。
技术领域
本发明的示例性实施例和实施方式总体涉及制造掩模的方法和制造显示装置的方法,并且更具体地,涉及可以获得具有高精度的掩模的制造掩模的方法以及使用该方法制造显示装置的方法。
背景技术
移动电子设备被广泛使用。作为移动电子设备,不仅诸如移动电话的小型电子设备而且平板个人计算机(PC)近来也已经被广泛使用。
为了支持各种功能,移动电子设备包括向用户提供诸如图像的可视信息的显示装置。近来,由于驱动显示装置的零部件被小型化,因此显示装置在电子设备中所占的比例逐渐增大,并且也正在开发可以从平坦状态弯曲为具有预定角度的结构。
通常,在制造包括有机发光显示装置的显示装置时,通过诸如沉积的方法形成各种层。例如,在有机发光显示装置中,在制造工艺期间,金属层等通过使用沉积设备形成在基板上。在该工艺期间,沉积材料通过使用包括开口图案的掩模沉积在预先放置的基板的一部分上。
形成掩模的开口图案的方法可以使用湿法蚀刻。然而,在湿法蚀刻的情况下,由于蚀刻工艺的不均匀性,可能难以制造精细图案。
在该背景技术部分公开的上述信息仅用于本发明构思的背景的理解,因此,其可能包含不构成现有技术的信息。
发明内容
一个或多个实施例包括制造具有高精度并且可以使阴影效应最小化的掩模的方法以及制造显示装置的方法。然而,应当理解的是,本文所描述的实施例应当仅在描述性意义上考虑,而不是为了限制本公开。
本发明构思的另外的特征在随后的描述中阐明,并且部分地根据这些描述显而易见,或者可以通过实践本公开呈现的实施例而获知。
根据一个或多个实施例,制造掩模的方法包括:拉紧掩模板;将拉紧的掩模板结合至掩模框;以及通过在掩模板上照射激光而在掩模板中形成开口,使得开口的内壁相对于掩模板的表面具有斜坡。
开口的形成可以包括:通过在掩模板上的第一位置处照射激光而形成第一开口;以及通过在掩模板上的第二位置处照射激光而形成第二开口,第二位置在第一方向上与第一位置隔开第一距离,并且在与第一方向交叉的第二方向上与第一位置隔开第二距离,其中第一距离和第二距离各自包括基于偏移校正值从关于第二开口的期望位置的信息校正后的距离。
开口的形成可以包括:在沿着掩模板的边缘的外侧区域中形成第一组开口;以及在第一组开口的内侧依次形成第二组开口。
开口的形成可以包括:形成第一开口;以及相对于掩模板的中心处的参考点与第一开口点对称地形成第二开口。
该方法可以进一步包括:倒置掩模框;以及对掩模板的该表面与开口的内壁之间的边缘进行倒角。
根据一个或多个实施例,制造显示装置的方法包括:制备掩模组件;将掩模组件布置为面对基板;将掩模组件紧密地贴附至基板;以及通过沉积源供应沉积材料以穿过掩模组件,以将沉积材料沉积在基板上,其中掩模组件包括掩模框以及包括多个开口并具有结合至掩模框的边缘的掩模板,掩模板的位于两个相邻的开口之间的第一部分包括第一表面、第二表面以及外侧表面,第一表面面对掩模框,第二表面与第一表面相对,并且外侧表面将第一表面连接至第二表面,并且外侧表面与第二表面之间的第一角度小于沉积材料相对于基板入射的第二角度。
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