[发明专利]混合键合方法及键合用衬底有效

专利信息
申请号: 202110260636.X 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN113035729B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 李仁雄;陈世杰;吴罚 申请(专利权)人: 联合微电子中心有限责任公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L23/498
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤
地址: 401332 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供一种混合键合方法及键合用衬底,包括如下步骤:提供一第一晶圆,所述第一晶圆表面具有第一介质层;在所述第一介质层中形成沟槽;在所述沟槽内填充金属,形成金属焊盘,所述金属焊盘突出于第一介质层的表面;在金属焊盘的间隙处形成第二介质层,所述第二介质层以一预定高度突出于金属焊盘的表面;提供一第二晶圆,并重复上述步骤形成相同的结构;将第一晶圆与第二晶圆预键合,接触面为突出的第二介质层表面;退火,使金属焊盘接触形成混合键合结构。本发明通过精确控制介质层的沉积厚度来控制金属焊盘的凹陷深度,工艺简单,容错率高。
搜索关键词: 混合 方法 合用 衬底
【主权项】:
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