[发明专利]一种高磁性耐磨损的散裂靶靶球及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110243261.6 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN113053555B 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 庞立龙;王志光;何源;张雪荧;台鹏飞;吕文泉 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: G21G4/02 分类号: G21G4/02;G21F9/00;B22F1/17;C22C27/04;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/32
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 刘鑫鑫
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种高磁性耐磨损的散裂靶靶球及其制备方法。本发明高磁性耐磨损散裂靶靶球,由球芯和由内至外依次包覆在球芯外的磁性层、过渡层和耐磨层构成;球芯为钨镍铁合金球或铍球。本发明制备方法,包括如下步骤:在球芯外依次包覆磁性层、过渡层和耐磨层,即可得到高磁性耐磨损散裂靶靶球。本发明新型的靶球结构设计,其磁性及耐磨性都得到了大幅提高,相应的靶球提升流量以及靶球的使用寿命也将大大提升,同时减少了粉尘的产生量。本发明制备方法中,利用粉末包覆烧结法制备表面高磁性涂层,其综合性能更好,表面的钨与镍铁组织具有非常好的润湿性,高温热处理后可在界面处实现冶金结合,结合力高,涂层不易脱落。
搜索关键词: 一种 磁性 耐磨 散裂靶靶球 及其 制备 方法
【主权项】:
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