[发明专利]一种高磁性耐磨损的散裂靶靶球及其制备方法有效
申请号: | 202110243261.6 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113053555B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 庞立龙;王志光;何源;张雪荧;台鹏飞;吕文泉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院近代物理研究所 |
主分类号: | G21G4/02 | 分类号: | G21G4/02;G21F9/00;B22F1/17;C22C27/04;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/32 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 刘鑫鑫 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高磁性耐磨损的散裂靶靶球及其制备方法。本发明高磁性耐磨损散裂靶靶球,由球芯和由内至外依次包覆在球芯外的磁性层、过渡层和耐磨层构成;球芯为钨镍铁合金球或铍球。本发明制备方法,包括如下步骤:在球芯外依次包覆磁性层、过渡层和耐磨层,即可得到高磁性耐磨损散裂靶靶球。本发明新型的靶球结构设计,其磁性及耐磨性都得到了大幅提高,相应的靶球提升流量以及靶球的使用寿命也将大大提升,同时减少了粉尘的产生量。本发明制备方法中,利用粉末包覆烧结法制备表面高磁性涂层,其综合性能更好,表面的钨与镍铁组织具有非常好的润湿性,高温热处理后可在界面处实现冶金结合,结合力高,涂层不易脱落。 | ||
搜索关键词: | 一种 磁性 耐磨 散裂靶靶球 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院近代物理研究所,未经中国科学院近代物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110243261.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种龙脑樟幼苗种植方法
- 下一篇:CT检测头部限位装置