[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110238997.4 | 申请日： | 2021-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113394069A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 山岸幸司;池田宽;近藤宽之 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;王昊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够在电极外周部的周向生成高均匀性等离子体的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括腔室、第1电极、高频电源、供电棒、板状部件和电介质体。第1电极为与腔室内相对的电极。高频电源对第1电极供给高频电力。供电棒对第1电极的与腔室内相对的面的相反一侧的面的中心高频供供电力。板状部件是与第1电极的与腔室内相对的面相反一侧的面平行地设置的、接地的导电性的板状部件。电介质体连接第1电极与板状部件之间，呈相对于第1电极的中心形成旋转对称的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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