[发明专利]光刻胶涂布设备及晶圆疏水性检测方法在审
| 申请号： | 202110189115.X | 申请日： | 2021-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN114967344A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 林锺吉;金在植;张成根;金成昱;梁贤石;丁明正;刘强;贺晓彬;刘金彪;王桂磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 郎志涛 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻胶涂布设备及晶圆疏水性检测方法，光刻胶涂布设备包括载台、检测液滴管和监测器，载台用于放置经疏水化处理的晶圆；检测液滴管位于载台的上方，检测液滴管用于朝晶圆滴涂检测液以形成液滴；监测器用于监测液滴的接触角α，以判断晶圆的疏水性。由此，本申请提出的光刻胶涂布设备具备在光刻胶涂布前实时监测晶圆的疏水性的功能，避免由于晶圆的疏水化处理不良导致的影响后续光刻胶涂布工艺的问题，进而提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 布设 疏水 检测 方法 | ||
【主权项】：
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