[发明专利]一种光场渲染伪影去除方法在审
| 申请号： | 202110176430.9 | 申请日： | 2021-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN112819726A | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 储备;沈方阳;雷宇;贾梦;涂子豪 | 申请（专利权）人： | 嘉兴丰鸟科技有限公司;奥本未来（北京）科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T15/20;G06T5/50;G06T7/13 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王金双 |
| 地址： | 314500 浙江省嘉兴市桐*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种光场渲染伪影去除方法，包括以下步骤：根据光场源图像和参数化网格生成对应的参数化图像；标记所述参数化图像上的伪影区域；获取所述参数化图像对应的无伪影图像；对所述参数化图像及其所述无伪影图像进行融合；基于融合后的参数化图像，修改光场源图像。本发明的光场渲染伪影去除方法，通过修改光场源图像使其与场景几何精确匹配，去除光场渲染中的伪影现象，向用户呈现更真实的渲染结果；缩短处理耗时，并且省去渲染时的模型推理开销。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 渲染 去除 方法 | ||
【主权项】：
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