[发明专利]载置台、等离子体处理装置以及清洁处理方法在审
| 申请号： | 202110143492.X | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN113257653A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 仙田孝博 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供载置台、等离子体处理装置以及清洁处理方法，其防止粘接剂的消耗，并且防止异常放电。该载置台包括：载置部，其配置于等离子体空间，用于载置基板；粘接层，其将上述载置部和基台粘接起来；贯通孔，其贯通上述载置部、上述基台以及上述粘接层，用于供给传热气体；以及套筒部件，其具有设有用于连通上述贯通孔和上述等离子体空间的多个细孔的面，并且以上述面在上述贯通孔的内部位于上述粘接层上方的方式配置。 | ||
| 搜索关键词： | 载置台 等离子体 处理 装置 以及 清洁 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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