[发明专利]光学装置、曝光装置以及物品制造方法在审
| 申请号： | 202110140250.5 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN113238459A | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 木村良一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李鹏宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并且抑制成像性能降低的光学装置，本发明所涉及的光学装置的特征在于具备：光学元件(5)；收纳光学元件(5)的镜筒(11)；设定从气体供给机构向镜筒(11)内供给的气体(17)的行进方向的行进方向设定机构(16)；以及控制行进方向设定机构(16)以便变更气体(17)的行进方向的控制部(18)。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 装置 曝光 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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