[发明专利]产生平版印刷掩膜的可比较区域的系统和方法在审
| 申请号： | 202110096951.3 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN113253568A | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | B·科恩;G·格林伯格;S·利夫希茨;S·阿达勒;O·O·达萨;Z·帕里扎特 | 申请（专利权）人： | 应用材料以色列公司 |
| 主分类号： | G03F1/84 | 分类号： | G03F1/84 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 以色列瑞*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本公开内容的实施方式提供了用于产生用于管芯间缺陷检测技术的管芯内参考的方法。使用管芯内参考的检查方法包括寻找平版印刷掩模的相似区块，所述相似区块由相似CAD信息限定。基于(i)所述相似区块的区域和(ii)在所述相似区块之间的空间关系来选择比较距离。基于比较距离，聚合所述相似区块，以提供多个聚合区域；和基于所述多个聚合区块来限定所述平版印刷掩模的可比较区域。使用检查模块获取所述平版印刷掩模的所述可比较区域中的至少一些可比较区域的图像。比较所获取的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 平版印刷 比较 区域 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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