[发明专利]一种消象差非球面平场全息凹面光栅的制备方法在审
| 申请号： | 202110094435.7 | 申请日： | 2021-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN112684530A | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 欧仕明;陈嘉庆;潘晓波;冯惠芬;石矿 | 申请（专利权）人： | 宜兴市晶科光学仪器有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙) 32385 | 代理人： | 刘巍 |
| 地址： | 214211 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种消象差非球面平场全息凹面光栅的制备方法，包括以下制备方法：(1)、基底处理；(2)、涂胶；(3)、前烘；(4)、全息曝光；(5)、显影；(6)、后烘；(7)、热熔；(8)、离子束刻蚀；(9)、清洁处理；(10)、镀膜；本发明的有益效果是，能够进一步消除部分球差，并且在口径、相对孔径，以及入射狭缝宽度均相同的情况下，由非球面全息凹面光栅构成的光谱仪普通的光谱仪具有更高的分辨率，提高了光谱仪的分辨率，并且由于该该光栅的孔径比较大，提高了对信号光的收集本领，并且使得光谱仪的结构更为紧凑，实现光谱仪器的小型化，便于人们使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 象差 球面 全息 凹面 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
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