[发明专利]一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法在审
| 申请号： | 202110078019.8 | 申请日： | 2021-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN112859520A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/075;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 任志龙 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及光刻胶领域，具体公开了一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法。其中，光刻胶包括如下重量份的组分：A：含羧基丙烯酸酯聚合物30~80份、B：光降解共轭低聚物、C：光聚合引发剂3~15份、D：三聚氰胺衍生物1~30份、E：二胺化合物1~10份，按照A组分与B组分重量份总和以100份计；本申请还公开了一种抗蚀剂图案，抗蚀剂图案由上述光刻胶制得；抗蚀剂图案的制备方法为：称取A、B、C、D、E混匀后制成乙醇溶液，喷涂形成感光膜；将感光膜压接到FPC基板上；投影电路图案，使光刻胶固化；清洗，得到所述抗蚀剂图案。本申请的光刻胶低能量固化快，分辨率高；抗蚀剂图案的厚度小，分辨率高；本申请的方法操作简单，制备效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 能量 固化 光刻 抗蚀剂 图案 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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